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光刻胶最新8大核心龙头全景梳理，看这一篇文章就够了

光刻胶（Photoresist）是一种用于半导体制造中的关键材料，它在光刻工艺中起到了重要的作用。光刻胶是一种特殊的敏化树脂，能够对紫外光或电子束等辐射进行化学反应，形成可控的图案。

10月19日，泰和科技公告，总经理、非独立董事姚娅计划在2025年11月10日至2026年2月9日期间，通过大宗交易或竞价交易方式减持不超过60.66万股，占总股本的0.278%。

中国无机絮凝剂行业以铝盐、铁盐、硅酸盐等无机组分为核心，通过电中和、吸附架桥等作用实现污染物絮凝沉降，广泛应用于水处理、矿业、造纸、石油天然气等领域。2024年中国无机絮凝剂行业市场规模达30.49亿元，同比增长4.38%。当前行业集中度较低，企业规模差异显著

国际知名品牌如纳尔科（Nalco）、清力（King Lee）、巴斯夫（BASF）等，凭借成熟配方和全球应用案例，在高端市场具有较强影响力，尤其适用于大型电厂、海水淡化等严苛工况。